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申请/专利权人:源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
摘要:本实用新型公开了一种陶瓷基板分区上料平台,包括底座、设置于所述底座上方的吸盘垫、若干个开设于所述吸盘垫上表面用于放置陶瓷基板的吸附区,所述吸盘垫上表面相邻两个吸附区间隙处均固定安装有限位块;所述底座的上表面开设有置物槽,所述置物槽的内壁固定连接有第一隔气条,所述第一隔气条的顶部卡接有若干个第二隔气条,所述第二隔气条和第一隔气条之间呈十字形排布并将置物槽内部分隔出与吸附区数量相等的真空腔体区域;通过设置真空阀能够实现对每个吸附区的独立控制,通过设置真空压力表能够实时检测真空腔体区域内负压值变化。
主权项:1.一种陶瓷基板分区上料平台,其特征在于,包括底座、设置于所述底座上方的吸盘垫、若干个开设于所述吸盘垫上表面用于放置陶瓷基板的吸附区,所述吸盘垫上表面相邻两个吸附区间隙处均固定安装有限位块;所述底座的上表面开设有置物槽,所述置物槽的内壁固定连接有第一隔气条,所述第一隔气条的顶部卡接有若干个第二隔气条,所述第二隔气条和第一隔气条之间呈十字形排布并将置物槽内部分隔出与吸附区数量相等的真空腔体区域;还包括用于对真空腔体区域进行吸气的吸气机构。
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