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摘要：本发明提供一种晶片连续清洁设备，本发明涉及晶片清洁技术领域，包括支撑平台，所述支撑平台上端安装有对再生晶片进行限位并且控制再生晶片定向转动的驱动装置，还包括对再生晶片表面进行连续清洁的清理条以及对清理条进行导向的导向结构，所述导向结构包括至少一个第一导向装置以及一个第二导向装置，通过第一导向装置以及第二导向装置控制清理条与再生晶片表面相抵完成连续清洁；所述清理条为封闭的环形，所述支撑平台下端还安装有位于清理条移动路径上的净化槽，所述净化槽包括容纳清洁液体的容纳主体。该发明能够对多个再生晶片进行连续清洁，无需对清理条进行更换，极大地提高了再生晶片表面连续清洁的效果以及效率。
主权项：1.一种晶片连续清洁设备，包括支撑平台（100），所述支撑平台（100）上端安装有对再生晶片（500）进行限位并且控制再生晶片（500）定向转动的驱动装置（400），还包括对再生晶片（500）表面进行连续清洁的清理条（700）以及对清理条（700）进行导向的导向结构，其特征在于：所述导向结构包括至少一个第一导向装置（300）以及一个第二导向装置（600），通过第一导向装置（300）以及第二导向装置（600）控制清理条（700）与再生晶片（500）表面相抵完成连续清洁；所述清理条（700）为封闭的环形，所述支撑平台（100）下端还安装有位于清理条（700）移动路径上的净化槽（200），所述净化槽（200）包括容纳清洁液体的容纳主体（210），所述容纳主体（210）内壁还安装有对清理条（700）表面进行清洁的清洁主体（230），所述清理条（700）定向穿过清洁主体（230）完成连续清洁。
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权利要求：
百度查询： 安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司 一种晶片连续清洁设备
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