龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本发明为一种清洗液，其为用于清洗硅晶圆的清洗液，其特征在于，所述清洗液为包含臭氧的氢氟酸水溶液，在所述清洗液中，氢氟酸浓度为使通过氢氟酸实现的氧化膜蚀刻速率为0.004nmsec以上的浓度，臭氧浓度为使通过臭氧实现的氧化膜形成速率为0.01nmsec以下的浓度，并且，所述氢氟酸浓度与所述臭氧浓度满足以通过臭氧实现的氧化膜形成速率通过氢氟酸实现的氧化膜蚀刻速率表示的速率比为1以下的关系。由此，可提供一种清洗液，所述清洗液可在抑制硅晶圆的表面粗糙度雾度的恶化和产生突起状的缺陷PID等的同时，进行硅晶圆表面的微粒和金属杂质的去除。
主权项：1.一种清洗液，其为用于清洗硅晶圆的清洗液，其特征在于，所述清洗液为包含臭氧的氢氟酸水溶液，在所述清洗液中，氢氟酸浓度为使通过氢氟酸实现的氧化膜蚀刻速率为0.004nmsec以上的浓度，臭氧浓度为使通过臭氧实现的氧化膜形成速率为0.01nmsec以下的浓度，并且，所述氢氟酸浓度与所述臭氧浓度满足以通过臭氧实现的氧化膜形成速率通过氢氟酸实现的氧化膜蚀刻速率表示的速率比为0.5以下的关系。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越半导体株式会社 清洗液及晶圆的清洗方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号