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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 产生光学邻近校正模型的方法和制造半导体装置的方法
    产生光学邻近校正模型的方法和制造半导体装置的方法_三星电子株式会社_202410449366.0
    提供了产生光学邻近校正模型的方法、校正光学邻近校正模型的方法、以及制造半导体装置的方法。产生光学邻近校正模型的方法包括：在目标图案的扫描电子显微镜图像的第一测量点处测量第一目标临界尺寸值，并在第二测量点处测量第二目标临界尺寸值；相对于目标图...
    2024-11-01
  • 处理盒和成像装置
    处理盒和成像装置_珠海天威飞马打印耗材有限公司_201810202189.0
    本发明提供一种处理盒和成像装置，处理盒包括盒体、辊和驱动力传递组件，辊可旋转地支撑在盒体的第一端壁和第二端壁上，驱动力传递组件位于盒体第一端壁侧并与辊驱动连接，驱动力传递组件用于接收驱动力；处理盒还包括驱动机构，驱动机构位于盒体的两端，驱动...
    2024-11-01
  • 一种视觉光源
    一种视觉光源_东莞市磐鑫自动化科技有限公司_202420337132.2
    本申请涉及视觉照明技术领域，公开了一种视觉光源，包括保持架，所述保持架的一侧设置有连接面，所述连接面为曲面；多个发光模组，多个所述发光模组均设置于所述保持架的一侧，多个所述发光模组依所述连接面的形状设置；PCB板，所述PCB板设置于所述保持...
    2024-11-01
  • 一种新型出粉刀
    一种新型出粉刀_中山市鼎诚盛新材料有限公司_202420318141.7
    本实用新型公开了一种新型出粉刀，包括刀架和刀片，所述刀架包括相互连接的架主体和斜板，斜板与架主体之间形成一个夹角，所述刀片与斜板平行且焊接在斜板上。本实用新型改进了刀架结构，将刀架制成架主体和斜板，刀片焊接在斜板上，斜板与架主体之间的夹角替...
    2024-11-01
  • 具有光学防抖功能的自动对焦用透镜驱动装置
    具有光学防抖功能的自动对焦用透镜驱动装置_睿恩光电有限责任公司_202010084738.6
    本公开提供了一种具有光学防抖功能的自动对焦用透镜驱动装置，包括：透镜支撑框体，其中空部中设置至少一个获取图像用透镜；自动对焦用框体，设置在透镜支撑框体的外侧，并且通过自动对焦用框体上设置的线圈与透镜支撑框体上设置的永磁体之间的相互磁性作用，...
    2024-11-01
  • 纸张输送装置和图像形成设备
    纸张输送装置和图像形成设备_株式会社理光_202011213403.6
    纸张输送装置和图像形成设备。纸张输送装置包括一对辊和偏压单元。该对辊被配置为夹持被输送的纸张。偏压单元被配置为将一对辊中的一个辊朝向该对辊中的另一个辊偏压。该对辊被配置为彼此不分离。纸张输送装置进一步包括偏压力切换单元，该偏压力切换单元被配...
    2024-11-01
  • 一种墨粉盒
    一种墨粉盒_江西亿铂电子科技有限公司_202310380530.2
    本发明公开了一种墨粉盒，能够可拆卸地安装至具有开闭部的电子照相成像装置，墨粉盒包括：壳体，可容纳墨粉，壳体在第一方向上包括顶部和底部，壳体在第二方向上包括前侧部和后侧部，壳体在第三方向上包括第一侧部和第二侧部；输出端口，连通壳体并将墨粉从壳...
    2024-11-01
  • 投影装置
    投影装置_中强光电股份有限公司_202410174670.9
    本发明提出一种投影装置，其包括影像模块、自由曲面反射镜以及投影镜头。影像模块配置以提供影像光束，且包括显示面板以及光源模块。影像光束借由自由曲面反射镜传递至投影镜头。投影镜头包括第一光轴以及第二光轴。第一光轴通过投影镜头。射出投影装置的影像...
    2024-11-01
  • 掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法
    掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法_爱发科成膜株式会社_202110268167.6
    本发明涉及一种掩模坯、相移掩模、掩模坯的制法及相移掩模的制法。本发明的掩模坯为具有成为相移掩模的层的掩模坯。掩模坯具有：相移层，层叠于透明基板；蚀刻停止层，设置在比所述相移层更远离所述透明基板的位置上；和遮光层，设置在比所述蚀刻停止层更远离...
    2024-11-01
  • 一种国土空间规划用有管理标记机构的设计辅助展示平台
    一种国土空间规划用有管理标记机构的设计辅助展示平台_阳谷县自然资源和规划局_202311488310.8
    本发明涉及展示平台领域，具体公开了一种国土空间规划用有管理标记机构的设计辅助展示平台；本发明通过在外壳内部设置安装架、顶升组件和展板，当使用人员需要展示自然资源地图时，可以通过顶升组件上升展板，将展板翻开伸展开来形成一个大平面，展开的展板能...
    2024-11-01
  • 可变光圈装置
    可变光圈装置_北京小米移动软件有限公司_202380008280.8
    一种可变光圈装置(100)，具备：多个翅片(110)，以形成限制光束的开口的方式沿圆周方向配置；凸轮(130)，通过转动使多个翅片(110)联动而位移，改变开口的大小；以及平滑冲击驱动机构(150)，使凸轮(130)转动。小型可变光圈装置(...
    2024-11-01
  • 光学邻近修正方法和装置、计算机可读存储介质
    光学邻近修正方法和装置、计算机可读存储介质_浙江创芯集成电路有限公司_202411231830.5
    一种光学邻近修正方法及其修正装置、计算机可读存储介质，所述光学邻近修正方法包括：获取设计版图；对所述设计版图进行切角处理，获得待修正版图；对所述待修正版图进行修正以获得流片版图。通过对设计版图进行切角处理，使设计版图中拐角之间间距转变为最小...
    2024-11-01
  • 光刻处理方法、装置和电子设备
    光刻处理方法、装置和电子设备_赫智科技(苏州)有限公司_202411185608.6
    本公开关于一种光刻处理方法、装置和电子设备，该方法包括显示光刻设备上基板对应的预设定位地图；响应于针对预设定位地图中基板的已光刻区域的定位指令，获取预设定位地图中已光刻区域的区域中心对应的第一位置信息，将第一位置信息作为待光刻图纸的中心在预...
    2024-11-01
  • 光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法
    光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法_重庆芯联微电子有限公司_202411085436.5
    本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法，测量方法包括：提供光阻层，在光阻层定义出目标光阻图形，目标光阻图形上设置有锚定点；依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形；基于实际光阻图形的锚定点位置...
    2024-11-01
  • 描画装置、数据处理装置、描画方法、以及描画数据生成方法
    描画装置、数据处理装置、描画方法、以及描画数据生成方法_株式会社斯库林集团_202110293334.2
    数据处理装置生成表示以初始网格宽度对初始描画数据所表示的初始描画区域进行分割而得到的多个第一网格区域的各描画内容的第一分割数据，基于第一基板的对准标记的位置，根据重新配置后的各第一网格区域的位置，对各第一网格区域的描画内容进行合成，生成第一...
    2024-11-01
  • 一种用于消除画面边缘杂光的DMD挡光片
    一种用于消除画面边缘杂光的DMD挡光片_安徽仁和光电科技有限公司_202420107787.0
    本实用新型公开了一种用于消除画面边缘杂光的DMD挡光片，包括：DMD显示芯片，所述DMD显示芯片的表面具有保护玻璃，所述DMD显示芯片表面的中部具有安装槽，所述DMD显示芯片的中部通过安装槽设置有凹形挡片。本实用新型安装有DMD显示芯片、保...
    2024-11-01
  • 一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置、曲面电路的制备方法
    一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置、曲面电路的制备方法_电子科技大学_202411100718.8
    本发明提供一种适用于规则曲面电路的接触式曝光装置、曲面电路的制备方法，属于曝光装置技术领域。通过将规则曲面上设计图案展开成多个连续的梭形图案块，实现原本曲面图案转化成平面图案；依据转化后的平面图案设计对应的掩模版，其中保留的图案区域为透光区...
    2024-11-01
  • 用于版图处理的方法、设备和介质
    用于版图处理的方法、设备和介质_全芯智造技术有限公司_202410850706.0
    根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。该方法包括：获取与目标版图中的目标图形段对应的采样点处的仿真信号，仿真信号用于模拟基于目标版图进行光刻而在晶圆上产生的光学信号。基于仿真信号在采样点处的信号变化信息和采样点在目标版...
    2024-11-01
  • 自动对焦用透镜驱动装置、相机装置及电子设备
    自动对焦用透镜驱动装置、相机装置及电子设备_睿恩光电有限责任公司_202010148440.7
    本公开提供了一种自动对焦用透镜驱动装置，包括：透镜支撑部，透镜支撑部具有中空部，中空部用于设置透镜；基座部，基座部具有容纳透镜支撑部的空间，基座部设置在透镜支撑部的外侧；第一SMA弹性体，第一SMA弹性体连接在透镜支撑部和基座部之间；以及第...
    2024-11-01
  • 一种聚酰亚胺光刻胶返工方法
    一种聚酰亚胺光刻胶返工方法_重庆中科渝芯电子有限公司_202410802586.7
    本发明提供一种聚酰亚胺光刻胶返工方法，包括以下步骤：S1:检查聚酰亚胺光刻胶涂层是否存在涂布缺陷，筛选出不符合要求的晶圆；S2：将所述不符合要求的晶圆进行干法去胶，去除不合格的聚酰亚胺光刻胶涂层；S3：对去除不合格的聚酰亚胺光刻胶涂层后的晶...
    2024-11-01
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