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申请/专利权人：苏州大学
申请日：2024-03-07
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN118147746A
专利技术分类：..控制或调节（一般的控制或调节入G05）[2006.01]
专利摘要：本发明属于半导体技术领域，涉及面向半导体分子束外延的一种图形化可控液滴外延方法。该方法包括以下步骤，将衬底的温度维持在低于目标液滴材料的熔点；在衬底表面沉积目标液滴材料，形成金属镀膜层，沉积厚度高于目标液滴材料正常形成液滴时的临界厚度；原位引入激光干涉脉冲辐照作用于所述金属镀膜层，实现目标液滴的图形化有序构筑。本发明方法可实现图形化制备III族元素液滴，该方法的原理和实施过程完全兼容传统的液滴外延过程，不存在引入任何材料缺陷的风险，不对衬底种类有选择，从而解决当前现有图形化技术普遍存在的包括材料晶体质量潜在的损伤，液滴成分一致性差以及液滴的种类直接受限于选用的衬底等问题。
专利权项：1.面向半导体分子束外延的一种图形化可控液滴外延方法，其特征在于，包括以下步骤，S1：将衬底的温度维持在低于目标液滴材料的熔点，所述目标液滴材料为III族金属材料；S2：在衬底表面沉积目标液滴材料，形成金属镀膜层，沉积厚度高于目标液滴材料正常形成液滴时的临界厚度；S3：原位引入激光干涉脉冲辐照作用于所述金属镀膜层，实现目标液滴的图形化有序构筑。
百度查询： 苏州大学 面向半导体分子束外延的一种图形化可控液滴外延方法
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