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一种SAW器件结构 

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申请/专利权人:苏州晶湛半导体有限公司

摘要:本申请提供了一种SAW器件结构,包括依次层叠设置的衬底、支撑结构层、单晶压电层以及叉指换能器,支撑结构层包括至少一个周期结构,每个周期结构包括至少一个周期,每个周期包括依次层叠设置的第一周期层和第二周期层,第一周期层的材料为AlScN,第一周期层位于第二周期层远离衬底的一侧。本申请SAW器件结构在单晶压电层和衬底之间设计支撑结构层,一方面可以释放单晶压电层和衬底晶格失配产生的应力,避免单晶压电层破裂,另一方面可以起声波反射作用,当单晶压电层中的声波传输至支撑结构层时,声波被反射回单晶压电层内,减少了声波的能量损失。

主权项:1.一种SAW器件结构,其特征在于,包括:依次层叠设置的衬底1、支撑结构层2、单晶压电层3以及叉指换能器4;其中,所述支撑结构层2包括至少一个周期结构,每个所述周期结构包括至少一个周期,每个所述周期包括依次层叠设置的第一周期层21和第二周期层22,所述第一周期层21的材料为AlScN,所述第一周期层21位于所述第二周期层22远离所述衬底1的一侧。

全文数据:

权利要求:

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