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用于确定空白光罩上的缺陷的类型及大小的系统及方法 

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申请/专利权人:科磊股份有限公司

摘要:本发明公开一种用于特性化样品的系统。在一个实施例中,所述系统包含控制器,所述控制器经配置以:接收所述样品的一或多个缺陷的训练图像;基于所述训练图像生成机器学习分类器;接收样品的一或多个缺陷的产品图像;运用所述机器学习分类器确定一或多个缺陷的一或多个缺陷类型分类;运用一或多个平滑滤波器过滤所述产品图像;执行二值化过程以生成二值化产品图像;对所述二值化产品图像执行形态图像处理操作;基于所述二值化产品图像确定所述一或多个缺陷的一或多个算法估计的缺陷大小;及基于所述一或多个算法估计的缺陷大小及所述一或多个缺陷类型分类确定所述一或多个缺陷的一或多个缺陷大小的一或多个改进估计值。

主权项:1.一种用于特性化样品的系统,其包括:控制器,其包含经配置以执行存储在存储器中的程序指令集的一或多个处理器,所述程序指令集经配置以引起所述一或多个处理器:接收所述样品的一或多个缺陷的一或多个训练图像,其中所述一或多个训练图像包括一组针对处于80至200nm范围内的缺陷的补丁图像和一组针对大于200nm的缺陷的重检图像;基于所述一或多个训练图像生成一或多个机器学习分类器;接收样品的一或多个缺陷的一或多个产品图像,其中所述一或多个产品图像中的一些是补丁图像,而所述一或多个产品图像中的一些是重检图像;运用所述一或多个机器学习分类器确定所述一或多个缺陷的一或多个缺陷类型分类;运用一或多个平滑滤波器过滤所述一或多个产品图像;执行一或多个二值化过程以生成一或多个二值化产品图像;对所述一或多个二值化产品图像执行一或多个形态图像处理操作;使用补丁图像针对具有80和200nm之间的缺陷大小的产品图像确定一或多个缺陷大小,并使用重检图像针对具有大于200nm的缺陷尺寸的产品图像确定一或多个缺陷大小;及基于一或多个算法估计的缺陷大小及所述一或多个缺陷类型分类确定具有小于80nm的大小的所述一或多个缺陷的一或多个缺陷大小的一或多个改进估计值。

全文数据:

权利要求:

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