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申请/专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
摘要：本发明提供一种版图结构的形成方法，包括以下步骤：建立多个框架模版，每个框架模版均具有切割道区域和芯片区域，切割道区域设置在芯片区域的外侧，切割道区域包括内围切割道及设置在内围切割道外侧的外围切割道，外围切割道在曝光时作为相邻曝光单元的重叠曝光区域，芯片区域的中心位置设置有标记图形放置区，内围切割道和标记图形放置区中放置有测试图形；根据需求选择对应的框架模版，并在标记图形放置区外侧的芯片区域中摆放芯片图形，以形成版图结构，可以解决当前针对不同类别产品定制独有的运行程式，以及单独评估各标记图形的摆放结果的合理性的不通用问题，以及部分标记图形不满足均匀性摆放的设计规则的问题。
主权项：1.一种版图结构的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：建立多个框架模版，每个所述框架模版均具有切割道区域和芯片区域，所述切割道区域设置在所述芯片区域的外侧，所述切割道区域包括内围切割道及设置在所述内围切割道外侧的外围切割道，所述外围切割道在曝光时作为相邻曝光单元的重叠曝光区域，所述芯片区域的中心位置设置有标记图形放置区，所述内围切割道和标记图形放置区中放置有测试图形；根据需求选择对应的所述框架模版，并在所述标记图形放置区外侧的芯片区域中摆放芯片图形，以形成版图结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种版图结构的形成方法
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