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申请/专利权人:安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司
摘要:本发明公开了一种氟化铽钾晶体抛光装置,涉及晶体加工技术领域,包括机台,所述机台的顶部开设有安装槽,所述安装槽的内壁转动安装有抛光盘,所述安装槽的一侧固定安装有晶体限位机构,所述晶体限位机构包括安装架,所述安装架的内壁转动连接有安装套,所述安装套的内壁设置有限位架,所述限位架的中部开设有限位槽,所述安装架的一侧固定安装有用于驱动安装套整体翻转的翻转电机;本发明通过设置若干个限位槽同时实现对多个晶体的稳定限位,以此配合抛光盘实现对多个晶体的同步打磨抛光;通过设置翻转电机带动安装套和限位架整体翻转半圈,使得各晶体的两端均能够与抛光盘接触,以此提高本装置的抛光加工效率。
主权项:1.一种氟化铽钾晶体抛光装置,其特征在于,包括机台1,所述机台1的顶部开设有安装槽,所述安装槽的内壁转动安装有抛光盘2,所述抛光盘2的底部固定安装有用于驱动抛光盘2转动的驱动电机7,所述安装槽的一侧固定安装有用于对氟化铽钾晶体进行限位的晶体限位机构4,所述晶体限位机构4包括安装架401,所述安装架401的内壁转动连接有安装套402,所述安装套402的内壁设置有限位架405,所述限位架405的中部开设有若干个用于放置氟化铽钾晶体的限位槽406,所述安装架401的一侧固定安装有用于驱动安装套402整体翻转的翻转电机404;所述安装架401远离翻转电机404的一侧固定连接有用于送入抛光剂的输送喷头414;所述安装槽的另一侧固定安装有用于对抛光盘2进行清理的清理机构5。
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