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申请/专利权人：广州市艾佛光通科技有限公司
摘要：本申请涉及半导体工艺技术领域，具体而言，涉及一种晶圆清洗方法及晶圆清洗系统，通过采用等离子体法先对晶圆的表面进行颗粒和杂质清除，再对晶圆进行静电处理，然后对晶圆的表面进行冲洗处理以冲掉一部分表面明显的杂质，并同时对晶圆表面进行刷洗处理，使晶圆表面的杂质完全刷洗干净，然后再对晶圆进行风干处理，使晶圆保持干燥再进行保存，本申请提供的晶圆清洗方法以干湿清洗结合的方式，将晶圆清洗做到较好，有效提高晶圆表面的洁净度，从而提高晶圆的成品率。
主权项：1.一种晶圆清洗方法，其特征在于，包括步骤：A1.将待清洗的晶圆上料，采用等离子体法对所述晶圆的表面进行颗粒和杂质清除；A2.对所述晶圆进行静电处理；A3.对所述晶圆进行冲洗和刷洗处理；A4.对所述晶圆进行风干处理,并对风干处理后的所述晶圆下料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广州市艾佛光通科技有限公司 一种晶圆清洗方法及晶圆清洗系统
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