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申请/专利权人：沈阳东钛未来工程技术有限公司
摘要：本发明公开了一种利用有机硅、多晶硅高低沸物及裂解釜釜底物生产气相法二氧化硅的方法，属于无机纳米粉体技术领域。该方法以有机硅、多晶硅高低沸物及裂解釜釜底物为原料，经高温汽化处理后产生的气体与氢气、空气混合后投入到水解反应器中进行燃烧水解反应并生成二氧化硅粒子；经聚集器聚集成的聚集态粒子经旋风分离、布袋分离、脱酸器内脱酸和脱渣处理后得到所述气相法二氧化硅成品。本发明方法制备的二氧化硅产品粒径分布窄且呈单峰分布、产品质量好。
主权项：1.一种利用有机硅、多晶硅高低沸物及裂解釜釜底物生产气相法二氧化硅的方法，其特征在于：该方法包括如下步骤：1以有机硅、多晶硅高低沸物及裂解釜釜底物为原料，将所述原料经过高温汽化处理后产生的气体与预热后的氢气和空气进行混合处理，得到混合气体；2将步骤1所得混合气体投入到水解反应器中进行燃烧水解反应并生成二氧化硅粒子；其中：反应温度为1700～1800℃，控制水解反应器出口温度为1100～1200℃，出口压力为-3～-5KPa；3将步骤2进行燃烧水解反应后的反应生成物经聚集器聚集成聚集态粒子；4将聚集态粒子经旋风分离、布袋分离、脱酸器内脱酸和脱渣处理后，再经过真空压缩机包装即得到所述气相法二氧化硅成品。
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百度查询： 沈阳东钛未来工程技术有限公司 利用有机硅、多晶硅高低沸物及裂解釜釜底物生产气相法二氧化硅的方法
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