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一种叠层衍射成像椭偏测量方法及装置 

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申请/专利权人:华中科技大学;湖北光谷实验室

摘要:本申请属于成像椭偏测量领域,具体公开了一种叠层衍射成像椭偏测量方法及装置,其中,成像方法包括:S1.对叠层衍射成像的照明光束进行偏振调制与解调,调制与解调构成一组偏振态,在不同偏振态下对样品的衍射场进行叠层扫描探测,得到衍射光强信息;S2.基于探测得到的衍射光强信息,采用叠层衍射成像重构算法得到不同偏振态下样品的幅值和相位信息;S3.利用不同偏振态的幅值信息计算得到样品的成像椭偏参数,对成像椭偏参数、幅值和相位信息进行复用,获取样品的光学常数和结构形貌信息。本申请的成像方法可以在大视场内对样品进行高横向分辨率椭偏成像,并同时获取了样品的幅值、相位和椭偏信息。

主权项:1.一种叠层衍射成像椭偏测量方法,其特征在于,包括以下步骤:S1.对叠层衍射成像的照明光束进行偏振调制与解调,调制与解调构成一组偏振态,在不同偏振态下对样品的衍射场进行叠层扫描探测,得到实际衍射光强信息;S2.基于探测得到的实际衍射光强信息,采用叠层衍射成像重构算法得到不同偏振态下样品的幅值和相位信息;S3.利用不同偏振态下样品的幅值信息计算得到样品的成像椭偏参数,对成像椭偏参数、幅值和相位信息进行复用,获取样品的光学常数和结构形貌信息。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华中科技大学 湖北光谷实验室 一种叠层衍射成像椭偏测量方法及装置

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