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申请/专利权人：鑫天虹(厦门)科技有限公司
摘要：本发明提供一种可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台，主要包括一腔体、一载台、一环形构件、一挡件及一盖环。载台及挡件位于腔体的容置空间内，其中环形构件连接载台。盖环设置在挡件的一环形凸缘，并包括至少一凸起部，其中凸起部位于盖环的内侧，并朝腔体的顶部凸起。盖环的凸起部用以遮挡载台的侧面，以减少沉积在载台侧面上的薄膜。盖环的凸起部亦有利于引导载台上方的气体，使得气体由载台的上方流向盖环的径向外侧，以提高载台及基板的边缘区域的气体流动的稳定性，并提高沉积在基板的边缘区域的薄膜均匀度。
主权项：1.一种可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台，其特征在于，包括：一腔体，包括一容置空间；至少一进气口，设置在该腔体上，流体连接该腔体的该容置空间，并用以将一制程气体输送至该容置空间；一载台，位于该容置空间内，包括一承载面及一侧面，该承载面用以承载至少一基板，而该侧面则位于该承载面的周围；一环形构件，连接该载台，并覆盖该载台的部分该侧面；一挡件，位于该腔体的该容置空间内，其中该挡件的一端具有一环形凸缘；一盖环，设置在该挡件的该环形凸缘上，该盖环包括至少一凸起部，其中该凸起部位于该盖环的一径向内侧，并朝远离该环形构件的方向凸起；及一升降装置，用以驱动该载台相对于该挡件位移，其中该升降装置带动该载台朝该挡件位移，使得该盖环的该凸起部遮挡该载台的该侧面，并与该载台的该侧面之间具有一间距；当所述载台朝所述挡件位移，使得所述盖环连接所述载台及或所述环形构件时，所述盖环的所述凸起部遮挡所述载台的侧面，以减少沉积在所述载台的侧面上的薄膜，且所述盖环的所述凸起部不会接触所述载台的侧面。
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权利要求：
百度查询： 鑫天虹(厦门)科技有限公司 可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台及其遮挡构件
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