买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

申请/专利权人：荷兰应用自然科学研究组织TNO

摘要：本发明涉及一种原子层沉积装置，用于将目标材料层区域选择性地沉积在衬底表面的沉积区域上，该衬底表面还包括非沉积区域。在使用中，衬底沿着多个沉积空间和隔离剂空间传送，所述多个沉积空间和隔离剂空间包括至少两个气体隔离剂空间，所述气体隔离剂空间至少提供有隔离剂气体入口和隔离剂排放部，用于在使用中使衬底暴露于隔离剂气流。其中所述气体隔离剂空间中的至少一个形成组合的隔离剂‑抑制剂气流，所述组合的隔离剂‑抑制剂气流包括隔离剂气体和抑制剂成分。所述抑制剂成分选择性地粘附到所述非沉积区域以形成抑制层，减少前体成分的吸附。在优选的实施方式中，该装置包括回蚀刻空间，以增加沉积工艺的选择性。

主权项：1.一种用于将目标材料层L区域选择性地沉积在衬底表面11的沉积区域21上的方法200，所述衬底表面还包括非沉积区域31，所述方法包括：提供衬底1，所述衬底包括衬底表面11，所述衬底表面包括至少一个沉积区域21和至少一个非沉积区域31；提供原子层沉积装置100，包括工艺气体注入头40和传送系统60；提供所述衬底1和所述工艺气体注入头40之间的相对移动，其中所述衬底表面11与所述工艺气体注入头相隔一定距离D，并且所述相对移动沿衬底表面的方向进行以形成传送平面，沿着所述传送平面，所述衬底表面通过在工艺气体注入头40和衬底表面11之间限定的多个沉积空间和隔离剂空间；所述多个沉积空间和隔离剂空间至少包括：第一沉积空间101，提供有前体供给部51和前体排放部，第二沉积空间102，提供有共反应物供给部52和共反应物排放部，以及至少两个隔离剂气体空间105，其中所述至少两个隔离剂气体空间中的每一个至少提供有隔离剂气体入口55和隔离剂气体排放部，其中，所述至少两个隔离剂气体空间中的第一隔离剂气体空间105a定位于与所述第一沉积空间101相邻，并且第二隔离剂气体空间105b定位于与所述第一沉积空间101相邻，而与所述第一隔离剂气体空间105a相对，并与所述第二沉积空间102相邻，并且所述工艺气体注入头设置为向所述第一隔离剂气体空间105a提供组合的隔离剂-抑制剂气流C，所述组合的隔离剂-抑制剂气流C包括惰性气体的隔离剂气体和选择性地粘附到所述非沉积区域的抑制剂成分5；向所述前体供给部51提供前体气流A；向所述共反应物供给部52提供共反应物气流B；向所述至少两个隔离剂气体空间105中的第一隔离剂气体空间105a的隔离剂气体入口55提供组合的隔离剂-抑制剂气流C；以及向所述至少两个隔离剂气体空间105中的第二隔离剂气体空间105b和所述至少两个隔离剂气体空间105中任一个进一步的隔离剂气体空间的隔离剂气体入口55提供惰性气体的隔离剂气流S。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 荷兰应用自然科学研究组织TNO 区域选择性原子层沉积方法及工具