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申请/专利权人：柔电(武汉)科技有限公司;江汉大学

摘要：本发明公开了一种连续原子层沉积包覆粉末的装置及方法，包括多个串联的ALD生长循环单元，通过多次反应完成原子层连续沉积，且每个ALD循环单元中分为第一反应器和第二反应器，可分别进行不同前驱体的反应，减少了同个反应腔中等待清洗的时间，各个工艺过程可以单独进行，节约了时间，降低生产成本，提高生产效率，且结构简单。

主权项：1.一种反应器，其特征在于，包括：反应室、净化室，净化室位于反应室下方，反应室与净化室之间设有阀装置，阀装置可在打开位置和关闭位置之间操作，阀装置具有碟板，当阀装置处于关闭位置时，净化室与反应室通过碟板隔离，所述碟板被构造为包括均布在蝶板面向反应室一侧的均流孔，位于蝶板内与所有均流孔连通的流化气排气管；所述反应室内设置有气压检测装置和温度传感器，所述反应室外设有加热装置，所述反应室通过尾气排出管依次连通微分电化学质谱和真空泵，尾气排出管入口处设有防止颗粒吸入的过滤器，所述反应室还与输料进管的出口连通，所述流化气排气管与进气管连通，进气管通过反应气排气阀和惰性载气排气阀分别连接到反应气公共进气管和惰性载气公共进气管附接的独立进气管上；所述净化室底部与输料出管的入口连通，所述净化室还通过惰性载气排气阀连通到惰性载气公共进气管附接的独立进气管，所述净化室还通过尾气管依次连通微分电化学质谱和真空泵；所述碟板包括外壳，外壳内沿碟板中轴设置流化气排气管，流化气排气管上附接有多根独立排气管，独立排气管的始端连通流化气排气管，独立排气管的末端远离流化气排气管，每根独立排气管上均匀设置均流孔；所述碟板还包括开闭装置，开闭装置在遮挡均流孔和不遮挡均流孔中操作，所述开闭装置按以下方式设置在外壳内：独立排气管末端封闭，均流孔自独立排气管内延伸到外壳表面，每根独立排气管内套设可沿独立排气管滑动的中空套管，以及能对套管施加压力或拉力的弹性体或磁性体，所述压力或拉力沿独立排气管轴向指向流化气排气管，所述套管上均匀设置通孔，套管靠近独立排气管末端的一端封闭，独立排气管的长度大于独立排气管内的套管长度；当向独立排气管通气使套管克服所述压力或拉力沿独立排气管轴向远离流化气排气管至抵近独立排气管末端时，套管上的通孔与独立排气管的均流孔一对一对齐，当向独立排气管停止通气或气压低于阈值时，套管在所述压力或拉力下沿独立排气管轴向靠近流化气排气管至抵近独立排气管始端，套管遮挡所述独立排气管的均流孔。

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