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摘要：本实用新型公开了一种碳化硅沉积设备，包括圆柱形的反应腔，反应腔内部设置有多个石墨舟，其外部设置有进气导管，其顶部设置有与之内部连通的排气接头，反应腔内表面对称位置圆周设置有数组进气单元，每组进气单元有数个等间距排设的进气管接头组成，进气管接头包括贯穿反应腔内壁的主管，主管位于反应腔内的一端固定连接有与之垂直的副管，且主管位于副管中间的位置，副管的一端封堵，其外表面与主管对立的位置还间距开设有出气孔，主管位于反应腔外侧的一端连通有进气管；本实用新型通过在反应腔内设置进气管接头，提高内部进气的整体均匀性，提升产品沉积均匀性以及腔室内不同位置产品沉积厚度的一致性。
主权项：1.一种碳化硅沉积设备，包括圆柱形的反应腔1，反应腔1内部设置有多个石墨舟，其外部设置有进气导管，其顶部设置有与之内部连通的排气接头2，其特征在于；反应腔1内表面对称位置圆周设置有数组进气单元，每组进气单元有数个等间距排设的进气管接头3组成；进气管接头3包括贯穿反应腔1内壁的主管31，主管31位于反应腔1内的一端固定连接有与之垂直的副管32，且主管31位于副管32中间的位置，副管32的一端封堵，其外表面与主管31对立的位置还间距开设有出气孔33；主管31位于反应腔1外侧的一端连通有进气管。
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百度查询： 北京亦盛精密半导体有限公司 一种碳化硅沉积设备
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