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申请/专利权人：合肥大学
摘要：本发明公开了一种类金刚石薄膜真空镀膜装置，属于镀膜技术领域，解决了现有设备镀膜作业时大颗粒子在镀膜基材上很容易沉积，从而影响镀膜质量，以及镀膜靶材表面磨损不均匀的问题，装置包括装置主体、磁控靶机构、同步驱动机构、气体供应机构，装置主体包括装置基座、镀膜工控机、真空镀膜座、基材取放座，同步驱动机构包括驱动电机、同步联动部、除杂驱动部；本发明中设置有磁控靶机构和同步驱动机构，同步驱动机构由驱动电机、同步联动部、除杂驱动部组成，除杂驱动部能够与电荷消除部联动配合，从而确保镀膜靶材表面磨损均匀，避免局部过度消耗，进而提高了镀膜靶材利用率并降低大颗粒粒子的产生，保证了基材镀膜质量。
主权项：1.一种类金刚石薄膜真空镀膜装置，所述类金刚石薄膜真空镀膜装置包括：装置主体1，所述装置主体1包括装置基座11、镀膜工控机14、真空镀膜座12、基材取放座13，所述真空镀膜座12固定安装在所述装置基座11上，镀膜工控机14固定安装在所述真空镀膜座12的侧壁上，基材取放座13可拆卸安装在所述真空镀膜座12上；磁控靶机构4，所述磁控靶机构4设置在所述真空镀膜座12内，磁控靶机构4用于对基材进行磁控溅射，并避免大颗粒粒子吸附在基材表面，其特征在于，所述磁控靶机构4包括镀膜靶材41、溅射阴极47、溅射阳极42、阳极线圈43、辅助线圈44、阴极冷却部46以及电荷消除部45，所述溅射阳极42、阳极线圈43、辅助线圈44分别设置在所述真空镀膜座12内，镀膜靶材41、溅射阴极47固定安装在所述电荷消除部45上，阴极冷却部46用于对溅射阴极47进行冷却保护；同步驱动机构2，所述同步驱动机构2安装在装置基座11上；其中，所述同步驱动机构2包括：驱动电机21，所述驱动电机21固定安装在所述装置基座11上；与驱动电机21输出端固定连接的同步联动部22，以及除杂驱动部23，所述除杂驱动部23设置在所述真空镀膜座12内，除杂驱动部23用于驱动所述电荷消除部45运动；气体供应机构3，所述气体供应机构3用于向真空镀膜座12内供应工作气体，并辅助增加工作气体与镀膜靶材41接触面积，气体供应机构3安装在所述装置基座11上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥大学 一种类金刚石薄膜真空镀膜装置
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