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申请/专利权人:宁波芯丰精密科技有限公司
摘要:本发明涉及半导体加工设备技术领域,具体公开了一种加工设备及其使用方法,该设备包括工作台,在工作台上分别设置冷却循环通道、真空吸附通道和混合通道,混合通道用于对多孔陶瓷盘上的孔抽真空、吹扫或输送清洗介质,以满足加工设备对晶圆的加工需求。冷却循环通道内的冷却介质对承盘和多孔陶瓷盘降温,避免在加工过程中发生受热变形,保证加工精度。通过真空吸附通道对底端盘进行真空吸附,在加工过程中保证底端盘与底座盘之间不会产生间隙,避免硅粉堆积导致最终的晶圆良品率下降。
主权项:1.加工设备,用于加工晶圆,包括磨削模块,所述磨削模块用于磨削所述晶圆,其特征在于,还包括工作台,所述工作台用于承载所述晶圆,所述工作台包括:多孔陶瓷盘1、承盘2、中间盘3、底端盘4和底座盘5,所述多孔陶瓷盘1、所述承盘2、所述中间盘3、所述底端盘4和所述底座盘5从上到下依次连接,所述多孔陶瓷盘1、所述承盘2和所述中间盘3从上到下边缘密封连接;所述工作台还包括:冷却循环通道,至少穿过所述底端盘4和所述中间盘3,用于向所述中间盘3输送冷却介质,所述冷却介质用于对所述承盘2和所述多孔陶瓷盘1降温;真空吸附通道,设置于所述底座盘5,以对所述底端盘4进行真空吸附;混合通道,依次穿过所述底座盘5、所述底端盘4、所述中间盘3、所述承盘2和所述多孔陶瓷盘1,用于对所述多孔陶瓷盘1上的孔抽真空、吹扫或输送清洗介质;循环泵,用于向所述冷却循环通道泵送冷却介质。
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