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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法。本发明的边缘环包括第一边缘环和第二边缘环，该第二边缘环具有与上述第一边缘环的侧面靠近的侧面，并且能够沿上述第一边缘环的侧面在上下方向上移动，在上述第二边缘环的移动范围内，上述第一边缘环的侧面与上述第二边缘环的侧面至少部分相对。本发明能够抑制在由多个部件构成的边缘环中使一个部件相对于其他部件上下移动时产生的工艺特性的变动。
主权项：1.一种边缘环，其特征在于，包括：第一边缘环；和第二边缘环，其具有与所述第一边缘环的侧面靠近的侧面，并且能够沿所述第一边缘环的侧面在上下方向上移动，在所述第二边缘环的移动范围内，所述第一边缘环的侧面与所述第二边缘环的侧面至少部分相对，在所述边缘环因暴露在等离子体中而发生消耗之前的状态下，所述第一边缘环的侧面的高度比所述第二边缘环的侧面的高度高。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 边缘环、载置台、基片处理装置和基片处理方法
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