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申请/专利权人:深圳市昂德环球科技有限公司;惠州市三航无人机技术研究院
摘要:本发明公开了一种AlGaN基深紫外LED外延片及制备方法,所述AlGaN基深紫外LED外延片包括:生长在蓝宝石衬底上的SiN层、生长在所述SiN层上的多个GaN纳米柱、对应包裹在所述多个GaN纳米柱外层的多个AlN纳米柱壳层、对应包裹在所述多个AlN纳米柱壳层外层的多个AlGaN纳米柱壳层、生长在所述多个AlGaN纳米柱壳层上的非掺杂AlGaN层、生长在所述非掺杂AlGaN层上的n型掺杂AlGaN层、生长在所述n型掺杂AlGaN层上的AlGaN多量子阱层、生长在所述AlGaN多量子阱层上的电子阻挡层、生长在所述电子阻挡层上的p型掺杂AlGaN层、生长在所述p型掺杂AlGaN层上的p型掺杂GaN层。本发明采用纳米柱结构代替传统复杂的多层薄膜缓冲层结构,降低蓝宝石和AlGaN之间的晶格失配,提高了性能。
主权项:1.一种AlGaN基深紫外LED外延片,其特征在于,包括:生长在蓝宝石衬底上的SiN层、生长在所述SiN层上的多个GaN纳米柱、对应包裹在所述多个GaN纳米柱外层的多个AlN纳米柱壳层、对应包裹在所述多个AlN纳米柱壳层外层的多个AlGaN纳米柱壳层、生长在所述多个AlGaN纳米柱壳层上的非掺杂AlGaN层、生长在所述非掺杂AlGaN层上的n型掺杂AlGaN层、生长在所述n型掺杂AlGaN层上的AlGaN多量子阱层、生长在所述AlGaN多量子阱层上的电子阻挡层、生长在所述电子阻挡层上的p型掺杂AlGaN层、生长在所述p型掺杂AlGaN层上的p型掺杂GaN层;单个所述GaN纳米柱的直径为50~200nm,高度为300~2000nm;单个所述AlN纳米柱壳层的厚度为50~150nm;单个所述AlGaN纳米柱壳层的厚度为50~150nm。
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