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申请/专利权人:江苏第三代半导体研究院有限公司
摘要:本发明提供一种外延片及其制备方法,外延片包括依次层叠设置的基底、复合硅铝氮缓冲层以及外延层,复合硅铝氮缓冲层自基底表面向外包括:周期性设置的SiN图形结构层和扩散层;扩散层包括层叠设置的铝硅氮扩散层和硅铝氮扩散层;铝硅氮扩散层和硅铝氮扩散层的界面处形成非均匀相互扩散区,非均匀相互扩散区包括SiN扩散微结构与AlN扩散微结构。本发明提供的外延片能够降低外延片内部应力,提高外延层的晶体质量,改善光电器件性能,提高光电产品良率,节约生产成本。
主权项:1.一种外延片,其特征在于,所述外延片包括依次层叠设置的基底、复合硅铝氮缓冲层以及外延层,所述复合硅铝氮缓冲层自所述基底表面向外包括:周期性设置的SiN图形结构层和扩散层;所述扩散层包括层叠设置的铝硅氮扩散层和硅铝氮扩散层;所述铝硅氮扩散层和所述硅铝氮扩散层的界面处形成非均匀相互扩散区,所述非均匀相互扩散区包括SiN扩散微结构与AlN扩散微结构。
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权利要求:
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