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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：公开了一种用于在衬底上外延形成外延叠层的方法。目前描述的方法的实施例包括执行多个沉积循环以形成外延叠层，由此每个沉积循环包括沉积脉冲以形成外延叠层的各个外延层。
主权项：1.一种形成外延叠层的方法，该方法包括：-向处理室提供衬底，-执行多个沉积循环，从而在衬底上形成外延叠层，该外延叠层包括多个第一外延对，其中每个第一外延对包括第一外延层和第二外延层，其中每个第一外延对的第一外延层和第二外延层包括至少第一IV族半导体材料，并且每个第一外延对的第二外延层还包括不同于第一IV族半导体材料的第二IV族半导体材料，其中，多个沉积循环中的每个在小于10托的压力值下进行。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 形成外延叠层的方法及其衬底处理设备
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