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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

摘要：为了改善测量设备的生产率性能和或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。

主权项：1.一种量测设备，所述量测设备包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和或所述第二衬底，其中，从第一前开式晶片盒、第二前开式晶片盒或第三前开式晶片盒装载所述第一衬底，其中，从所述第一前开式晶片盒、所述第二前开式晶片盒或所述第三前开式晶片盒装载所述第二衬底，其中，所述第一测量设备是包括第一对准传感器系统的对准测量设备，所述第一对准传感器系统用于测量第一数量的对准标记在由所述第一衬底台和或所述第二衬底台支撑的衬底上的位置，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备和光谱反射率测量设备中的至少所述水平传感器，所述水平传感器被配置成通过完全地或部分地扫描由所述第一衬底台和或所述第二衬底台支撑的所述衬底的上表面而仅针对设置有相应对准标记的区域来进行高度测量，以获得所述第一衬底和所述第二衬底中的相应衬底的高度图，以在利用所述第一对准传感器测量所述相应对准标记的过程中优化由所述第一衬底台和或所述第二衬底台支撑的所述衬底相对于所述第一对准传感器的垂直位置和倾斜位置两者中的至少一个。

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权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 量测设备和衬底平台输送装置系统