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申请/专利权人：湖南德智新材料有限公司

摘要：本申请涉及气相沉积技术领域，尤其涉及一种支撑机构、气相沉积设备以及气相沉积方法，以解决在气相沉积过程中，支撑结构与待沉积件全程在待沉积件的表面的同一区域接触，造成此区域不能被沉积薄膜的问题。该支撑机构的支撑台上设置有至少一组第一支撑柱和至少一组第二支撑柱，第二支撑柱设置于第一斜面滑块的第一斜面上的支撑座上，在第一斜面滑块沿往复滑动的过程中，支撑座可以沿竖直方向升高或者降低，使第二支撑平面高于或者低于第一支撑平面，通过第一支撑柱和第二支撑柱更替支撑待沉积件，使得第一支撑柱和第二支撑柱与待沉积件的接触区域均可以暴露在工艺气体中，从而可以一次性完成对待沉积件的所有表面的薄膜沉积，提高了薄膜沉积效果。

主权项：1.一种支撑机构，其特征在于，应用于气相沉积设备，所述气相沉积设备被配置为对待沉积件进行气相沉积，所述气相沉积设备包括腔体，所述腔体围成腔室，所述腔室用于容纳所述待沉积件，所述支撑机构被配置为支撑所述待沉积件，所述支撑机构包括：支撑台，设置于所述腔室；至少一组第一支撑柱，设置于所述支撑台上，至少一组所述第一支撑柱形成第一支撑平面；第一斜面滑块，设置于所述支撑台上，所述第一斜面滑块的远离所述支撑台的一侧具有第一斜面，所述第一斜面滑块被配置为沿水平直线往复滑动；支撑座，设置于所述第一斜面上，并与所述第一斜面滑动接触；至少一组第二支撑柱，设置于所述支撑座上，至少一组所述第二支撑柱形成第二支撑平面；其中，在所述第一斜面滑块沿所述水平直线往复滑动的过程中，所述支撑座沿竖直方向升高或者降低，从而使所述第二支撑平面高于或者低于所述第一支撑平面，其中，在所述第一支撑平面高于所述第二支撑平面的情况下，所述第一支撑柱支撑所述待沉积件，在所述第一支撑平面低于所述第二支撑平面的情况下，所述第二支撑柱支撑所述待沉积件；其中，所述支撑机构还包括：第一推杆组件，与所述第一斜面滑块连接，被配置为推动所述第一斜面滑块沿所述水平直线往复滑动；驱动结构，与所述第一推杆组件连接，被配置为驱动所述第一推杆组件沿所述水平直线往复移动；其中，所述第一推杆组件包括与所述第一斜面滑块连接的第一推杆以及与所述第一推杆连接的第一滑动组件；其中，所述腔体的侧壁具有沿水平方向设置的第一滑槽，所述第一滑动组件的第一端穿过所述第一滑槽与所述第一推杆连接，所述第一滑动组件的第二端与所述驱动结构连接，所述驱动结构设置于所述腔室外，并被配置为驱动所述第一滑动组件沿所述第一滑槽往复移动，使所述第一推杆沿所述水平直线往复移动；其中，所述驱动结构包括：第一驱动组件，被配置为提供正转驱动力和反转驱动力；第一齿轮，与所述第一驱动组件连接，在所述第一驱动组件的驱动下绕第一轴线交替正转和反转；驱动盘，设置于所述第一齿轮的靠近所述侧壁的一侧，在所述第一齿轮的带动下绕所述第一轴线交替正转和反转，所述驱动盘具有第二滑槽，所述第二滑槽的形状包括渐开线形；其中，所述第一滑动组件的第一端穿过所述第二滑槽和所述第一滑槽与所述第一推杆连接，所述第一滑动组件的第二端与所述第二滑槽滑动连接；其中，在所述驱动盘绕所述第一轴线交替正转和反转的过程中，所述第二滑槽推动所述第一滑动组件沿所述第一滑槽往复移动，使所述第一推杆沿所述水平直线往复移动。

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