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申请/专利权人:江苏芯德半导体科技有限公司
摘要:本发明公开了一种UBM跨越式晶圆级封装结构,包括芯片基层,所述芯片基层包含正表面和背表面,在正表面上设有第一压区和第二压区,在第一压区和第二压区之间设有第三压区单元,第三压区单元包含至少一个压区;凸块下金属化层,所述凸块下金属化层的接触端与至少和第一压区和第二压区连接,所述凸块下金属化层上方有焊接凸点;钝化层,所述钝化层形成与芯片基层的正表面,所述凸块下金属化层下方设有可跨越单个或多个再布线层。本发明的一种UBM跨越式晶圆级封装结构,UBM跨越再布线层(RDL层)或再钝化层(Repassivation)互联导通芯片不同区域压区的晶圆级封装新型结构,简化了晶圆级封装的工艺流程。
主权项:1.一种UBM跨越式晶圆级封装结构,其特征在于:包括芯片基层,所述芯片基层包含正表面和背表面,在正表面上设有第一压区和第二压区,在第一压区和第二压区之间设有第三压区单元,第三压区单元包含至少一个压区;凸块下金属化层,所述凸块下金属化层的接触端与至少和第一压区和第二压区连接,所述凸块下金属化层上方有焊接凸点;钝化层,所述钝化层形成于芯片基层的正表面。
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