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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本申请提供一种半导体工艺设备，包括半导体工艺腔室和用于向半导体工艺腔室输送工艺气体的进气装置，进气装置用于向半导体工艺腔室输送工艺气体，包括装置本体和气量调节机构，装置本体具有输送通道，装置本体还具有间隔围绕输送通道设置的环形通道，输送通道的侧壁设有多个连通环形通道的进气孔，装置本体连有用于输送工艺气体的进气管路；气量调节机构能够在输送通道内转动，并遮挡进气孔。进气管路将工艺气体送入环形通道，环形通道能够使工艺气体重新分配。气量调节机构能够遮挡进气孔，改变工艺气体在各个进气孔的分布，再由进气孔进入输送通道中，使工艺气体的分布满足薄膜均匀生长的要求。
主权项：1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括半导体工艺腔室和用于向所述半导体工艺腔室输送工艺气体的进气装置，所述进气装置包括装置本体和气量调节机构，所述装置本体具有输送通道，所述装置本体还具有环形通道，所述环形通道围绕于所述输送通道的外周，所述输送通道的侧壁设有多个与所述环形通道连通的进气孔，所述装置本体连有进气管路，所述进气管路与所述环形通道连通，所述环形通道用于将所述工艺气体通过所述进气孔送入所述输送通道；所述气量调节机构能够在所述输送通道内转动，并遮挡所述进气孔，以调节所述工艺气体的分布。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体工艺设备
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