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申请/专利权人：无锡氟士德装备制造集团有限公司
摘要：本实用新型涉及化学品储罐加工技术领域，且公开了高纯度衬里结构的半导体化学品储罐加工用装置，包括底台，底台的顶部设置有加工罐，底台的内部设置有调节放置装置，底台的内部设置有处理装置，调节放置装置包括箱件、气泵、连接气管、第二连接气管、气囊、连接圆座和联通槽孔，所述箱件固定连接于加工罐的内底部。该高纯度衬里结构的半导体化学品储罐加工用装置，通过设置有调节放置装置，利用第二连接气管传输到气囊中，使得气囊充气膨胀，不断接近化学品储罐，形成对化学品储罐的夹持，且配合底部吸力组件，能够使得装置对储罐加工过程中可以设置有对不同尺寸储罐进行夹持固定的组件，在加工过程中不会相互推移造成储罐的损坏。
主权项：1.高纯度衬里结构的半导体化学品储罐加工用装置，包括底台（1），其特征在于：所述底台（1）的顶部设置有加工罐（2），所述底台（1）的内部设置有调节放置装置（3），所述底台（1）的内部设置有处理装置（4）；所述调节放置装置（3）包括箱件（301）、气泵（302）、连接气管（303）、第二连接气管（304）、气囊（305）、连接圆座（306）和联通槽孔（307），所述箱件（301）固定连接于加工罐（2）的内底部，所述气泵（302）固定连接于箱件（301）的正面，所述连接气管（303）固定连接于气泵（302）的正面，所述第二连接气管（304）固定连接于气泵（302）的右侧，所述联通槽孔（307）开设于连接圆座（306）的顶部。
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权利要求：
百度查询： 无锡氟士德装备制造集团有限公司 高纯度衬里结构的半导体化学品储罐加工用装置
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