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2.5D微凸块封装结构和2.5D微凸块封装结构的制备方法 

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申请/专利权人:甬矽半导体(宁波)有限公司

摘要:本申请涉及一种2.5D微凸块封装结构和2.5D微凸块封装结构的制备方法,涉及半导体技术领域,该2.5D微凸块封装结构,包括基材、第一介质层、第一反射层、第二介质层、第二反射层、第一布线组合层、第二布线组合层以及导电凸块,在基材上依次设置第一介质层、第一反射层、第二介质层和第二反射层,通过开槽方式形成槽口后再制备第一布线组合层和第二布线组合层,最后制备形成导电凸块,由于第一反射层和第二反射层均采用了遮光材料,因此可以遮挡光线,在开槽过程中能够减缓光线在介质层中的反射以及衍射现象,提升开口精度,同时避免介质层由于反射或衍射造成表面存在凹坑的问题,提升了后续布线层的结合力。

主权项:1.一种2.5D微凸块封装结构,其特征在于,包括:基材,所述基材的一侧表面设置有焊垫;第一介质层,所述第一介质层设置在所述基材设置有焊垫的一侧表面;第一反射层,所述第一反射层设置在所述第一介质层上;第二介质层,所述第二介质层设置在所述第一反射层上;第二反射层,所述第二反射层设置在所述第二介质层上;第一布线组合层,所述第一布线组合层设置在所述第二反射层上,并与所述焊垫电连接;第二布线组合层,所述第二布线组合层设置在所述第一布线组合层上,并与所述第一布线组合层电连接;导电凸块,所述导电凸块设置在所述第二布线组合层上,并与所述第二布线组合层电连接;其中,所述第一反射层和所述第二反射层均采用遮光材料,第一布线组合层依次穿过所述第二反射层、所述第二介质层、所述第一反射层和所述第一介质层,并与所述焊垫电接触。

全文数据:

权利要求:

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