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申请/专利权人：深圳至元精密设备有限公司

摘要：本发明公开了一种用于碳化硅晶圆的边缘抛光装置，涉及半导体加工技术领域。包括至少三个驱动主轴。使用化学机械抛光技术，通过抛光垫主体一和抛光垫主体二的机械摩擦和抛光液中磨料及化学溶液的共同作用，从而获得平坦光滑的晶圆边缘表面效果，提升抛光后的表面质量，并且能通过调整配重杆重量及抛光鼓支架一的转速实现精确调节抛光垫主体一对晶圆边缘的压力，控制晶圆边缘材料的去除速率，从而达到高精度的抛光，提高了晶圆的生产良率，同时，特殊的锥面抛光鼓主体配合弧面的抛光垫主体二，也增大了抛光垫主体二与晶圆边缘的接触面积，提高了材料去除率，从而提高晶圆抛光的效率，也延长了抛光垫主体二的使用寿命，从而有效降低加工成本。

主权项：1.一种用于碳化硅晶圆的边缘抛光装置，包括至少三个驱动主轴（1），其特征在于：三个所述驱动主轴（1）的输出端分别设置有一个晶圆TOP面抛光机构（2）和两个晶圆AB面抛光机构（3）；所述驱动主轴（1）包括主轴主体（11）以及设置于主轴主体（11）内部的抛光液管道（12），所述抛光液管道（12）用于晶圆（4）边缘抛光过程中添加抛光液以及晶圆（4）抛光完成后的纯水清洗；所述晶圆TOP面抛光机构（2）包括抛光鼓支架一（21），所述抛光鼓支架一（21）的一圈内部活动设置有若干个抛光垫支架（22），所述抛光垫支架（22）的一侧设置有抛光垫主体一（23）；所述晶圆AB面抛光机构（3）包括抛光鼓支架二（31），所述抛光鼓支架二（31）的底部设置有抛光鼓主体（32），所述抛光鼓主体（32）的内部设置有若干个抛光垫主体二（33）；所述抛光垫支架（22）的一端通过旋转轴（24）转动设置于抛光鼓支架一（21）的内部，所述旋转轴（24）的顶端贯穿至抛光鼓支架一（21）的顶部并固定设置有连接杆（25）；所述连接杆（25）远离旋转轴（24）的一端底部设置有位于抛光鼓支架一（21）一侧的配重杆（26）；所述抛光垫支架（22）的一侧设置有位于旋转轴（24）一侧的固定板（27），所述抛光鼓支架一（21）的顶部设置有位于连接杆（25）一侧的限位销（28）；所述抛光鼓支架一（21）的顶部设置有弹簧固定座（29），所述弹簧固定座（29）位于连接杆（25）远离配重杆（26）一端的一侧，所述弹簧固定座（29）上设置有一端与连接杆（25）一侧相连接的弹簧主体（291）。

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