买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:镓特半导体科技(铜陵)有限公司
摘要:本实用新型公开了用于生长GaN的HVPE设备排气装置,包括:反应腔(1)、取片腔(2)、连接反应腔和取片腔的法兰以及过滤器(3),所述法兰上连通有排气管(4),所述排气管的末端连通有上外管(5),所述上外管内同心设置有与排气管连通的上内管(6),所述上内管的末端露出在上外管的底部之外,所述上内管的末端外套接有下外管(7),所述下外管内同心设置有与上内管连通的下内管(8),所述下内管的末端露出在下外管的底部之外,所述下内管通过波纹管(9)与过滤器连通。本实用新型的有益效果是用外管套内管的方式,内管可以插入另一个管道的外管内,外管是起到密封作用,内管是防止金属镓直接接触连接部分,提高排气管的可靠性。
主权项:1.用于生长GaN的HVPE设备排气装置,包括:反应腔(1)、取片腔(2)、连接反应腔和取片腔的法兰(11)以及过滤器(3),其特征是:所述法兰上连通有排气管(4),所述排气管的末端连通有上外管(5),所述上外管内同心设置有与排气管连通的上内管(6),所述上内管的末端露出在上外管的底部之外,所述上内管的末端外套接有下外管(7),所述下外管内同心设置有与上内管连通的下内管(8),所述下内管的末端露出在下外管的底部之外,所述下内管通过波纹管(9)与过滤器连通。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 镓特半导体科技(铜陵)有限公司 用于生长GaN的HVPE设备排气装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。