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申请/专利权人：珠海基石科技有限公司
摘要：本申请提供了一种光致抗蚀剂、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法，光致抗蚀剂包括成膜树脂、光致酸产生剂、添加剂和溶剂，所述添加剂包括抗老化剂；所述抗老化剂包括结构式为的化合物，其中，R1、R2、R3和R4独立地选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基、‑C=O‑R5或‑C=OO‑R6。本申请提供的光致抗蚀剂包含具有环氧结构的抗老化剂，有利于抑制光致抗蚀剂的老化反应，提高光致抗蚀剂的稳定性，延长光致抗蚀剂的储存周期。
主权项：1.一种光致抗蚀剂，其特征在于，所述光致抗蚀剂包括成膜树脂、光致酸产生剂、添加剂和溶剂，所述添加剂包括抗老化剂；所述抗老化剂包括结构式为的化合物，其中，R1、R2、R3和R4独立地选自氢原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基、-C=O-R5或-C=OO-R6；R5为卤素原子、取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、或取代或未取代的芳基；R6为取代或未取代的烷基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的炔基、取代或未取代的环烷基、或取代或未取代的芳基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 珠海基石科技有限公司 光致抗蚀剂、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法
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