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摘要：本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，修正方法包括以下步骤：输入多个初始主图形，根据初始主图形中的图案类型，将多个初始主图形划为重要主图形和次级主图形，其中重要主图形和次级主图形具有一级优先常量；根据初始主图形的特征关键尺寸所在的尺寸区间，为初始主图形分配二级优先常量；依次为多个初始主图形分配权重系数和优先级系数，其中优先级系数为一级优先常量、二级优先常量和权重系数的乘积；根据初始主图形的优先级系数的大小，对多个初始主图形的优先级进行排序；以及获取辅助图形的添加规则，并按照初始主图形的优先级顺序，依次添加辅助图形至掩模版上。本发明提供了一种掩模版的修正方法及系统，能够增大图形工艺窗口。
主权项：1.一种掩模版的修正方法，其特征在于，包括以下步骤：输入多个初始主图形，根据所述初始主图形中的图案类型，将多个所述初始主图形划为重要主图形和次级主图形，其中所述重要主图形和所述次级主图形具有一级优先常量；根据所述初始主图形的特征关键尺寸所在的尺寸区间，为所述初始主图形分配二级优先常量；依次为多个所述初始主图形分配权重系数和优先级系数，其中所述优先级系数为所述一级优先常量、所述二级优先常量和所述权重系数的乘积；根据所述初始主图形的优先级系数的大小，对多个初始主图形的优先级进行排序；以及获取辅助图形的添加规则，并按照所述初始主图形的优先级顺序，依次添加所述辅助图形至所述掩模版上。
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百度查询： 合肥晶合集成电路股份有限公司 一种掩模版的修正方法及系统
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